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Direct nano-in-micropatterning of TiO2 thin layers and TiO2/Pt nanoelectrode arrays by deep X-ray lithography / Faustini, M., Marmiroli, B., Malfatti, L., Louis, B., Krins, N., Falcaro, P., Grenci, G., Laberty Robert, C., Amenitsch, H., Innocenzi, P., Grosso, D.. - In: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY. - ISSN 0959-9428. - 21:(2011), pp. 3597-3603. [10.1039/C0JM03493B]
Direct nano-in-micropatterning of TiO2 thin layers and TiO2/Pt nanoelectrode arrays by deep X-ray lithography
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
